DESCRIERE
Mască facială ESHUMI Collagen Repair Cica Mask este o mască intens hidratantă și regenerantă tip șervețel, care combină puterea colagenului hidrolizat și extractului de Centella Asiatica (CICA). Datorită ingredientelor active atent selecționate, ajută la restabilirea elasticității, netezirea ridurilor, calmarea iritațiilor și îmbunătățirea stării pielii obosite și deshidratate.. Țesătura sa delicată aderă strâns la față, oferind pielii o doză concentrată de nutrienți și redându-i strălucirea sănătoasă.. Este o alegere excelentă pentru persoanele care caută îngrijire eficientă anti-îmbătrânire, precum și pentru tenul sensibil, cuperozic și care are nevoie de calmare.
Centella Asiatica – secretul pielii sănătoase și calme
Centella Asiatica, cunoscută și sub numele de Cica sau gotu kola, este o plantă folosită de secole în medicina naturală datorită proprietăților sale regeneratoare și calmante.. Conține compuși activi valoroși precum asiaticozidă, madecasozidă, acid asiatic și acid madecassic, care susțin regenerarea pielii, întăresc vasele de sânge și reduc roșeața. Acționează calmant asupra iritațiilor, stimulând în același timp sinteza colagenului, ceea ce contribuie la îmbunătățirea fermității și elasticității. Acesta este un ingredient recomandat în special pentru tenurile sensibile, predispuse la iritații și cu vase de sânge vizibile.
Masca ESHUMI Collagen Repair Cica conține, printre altele,:
colagen hidrolizat (Hidrogenat colagen) – îmbunătățește fermitatea și elasticitatea pielii, netezește și are efect antirid.
extract de centella asiatica (Extract Centella Asiatica) – acționează calmant, susține regenerarea și întărește vasele de sânge.
acid hialuronic (Hialuronat de sodiu) – hidratează intens, leagă apa în piele și previne uscarea excesivă.
alantoină (Alantoina) – calmează iritațiile, accelerează regenerarea și susține vindecarea pielii.
betaină (betaină) – protejează împotriva pierderii umidității, catifelează și îmbunătățește confortul pielii.
trehaloză (Trehaloză) – antioxidant puternic, susține protecția celulelor împotriva stresului oxidativ și a deshidratării.
COMPOZIȚIE (INCI)
Apă, Glicerină, Propilenglicol, Metilpropanediol, Alcool Denat., Fenoxietanol, Polisorbat 80, Alantoină, Betaină, Carbomer, Clorfenezină, Gumă Xantan, Trietanolamină, Butilenglicol, EDTA Disodic, 1,2-Hexandiol, Extract de Centella Asiatica, Parfum, Colagen Hidrolizat, Hialuronat de Sodiu, Dipropilenglicol, Trehaloză, Asiaticozidă, Madecazozidă, Acid Asiatic, Acid Madecassic.
SPOSÓB UŻYCIA
Aplicați masca pe fața curățată și uscată, adaptând-o la forma acesteia.. Lăsați timp de 15–20 de minute pentru ca ingredientele active să pătrundă în piele.. Îndepărtați masca, iar excesul de esență se tapotează ușor cu vârfurile degetelor, fără a clăti.
PRECAUȚII
Nu se aplică pe pielea lezată sau iritată. Nu utilizați în caz de alergie la oricare dintre ingrediente. Doar pentru uz extern. În cazul apariției simptomelor de iritație sau erupție cutanată, întrerupeți imediat utilizarea și consultați medicul.. Nu se utilizează imediat înainte de expunerea la lumina solară. A se evita contactul direct cu ochii. Nu depozitați la temperaturi extrem de ridicate sau scăzute. A nu se lăsa la îndemâna copiilor.